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XPS分析

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简介

用X射线照射试料表面,通过观测脱出的光电子能量可以得到表面数nm的信息。与AES相比,X射线照射范围为数十μm,面分解能差,但是能量分解能高,所以在化学结合状态评价方面十分擅长。可以进行元素组成评价、半定量评价,测定深度方向时与Ar光束等溅射并用。可使用绝缘性试料。也常被称作ESCA。

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分析特长

1. 极表面原子分布
通过获取试料表面数nm的极表面的元素分布和组成情报,可以评价物质的结合界面等的状态。
2. 化学结合状态分析
由于能量分解能高,可以评价从物质得到的峰值元素成分。可以评价物质的氧化状态和金属间接合状态等化学状态。
3. 深度方向分析
与Ar溅射蚀刻和电子群等并用不仅可以分析表面还可以对深度方向进行分析。

4. 角度分解分析

一边改变试料的倾斜角(Tilt)一边进行测定,可以在非破坏及蚀刻后组成无变化的状态下对表面进行数nm级的深度分析。

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分析原理

用X射线照射试料表面,测定从表面脱出的能量。X射线虽然是照射到物质的最深处,但是因为检出的光电子捕捉到低能量物质,所以可以得到试料表面数nm的情报,对有机物质和绝缘试料等的评价十分容易是其特征。

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分析用途

1、元素的定性分析。可以根据能谱图中出现的特征谱线的位置鉴定除H、He以外的所有元素。

2、元素的定量分析。根据能谱图中光电子谱线强度(光电子峰的面积)反应原子的含量或相对浓度。

3、固体表面分析。包括表面的化学组成或元素组成,原子价态,表面能态分布,测定表面电子的电子云分布和能级结构等。

4、化合物的结构。可以对内层电子结合能的化学位移精确测量,提供化学键和电荷分布方面的信息。

5、分子生物学中的应用。Ex:利用XPS鉴定维生素B12中的少量的Co。


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